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微光顯微鏡(EMMI)硅器件電發(fā)光特征失效分析




來(lái)源:yiyi
時(shí)間:2017-7-2 13:09:06

微光顯微鏡(EMMI)硅器件電發(fā)光特征失效分析


EOS失效分析——微光顯微鏡工具

    微光顯微鏡(EMMI)工具利用了硅器件電發(fā)光的特征。微光顯微
鏡對于ESD設備工作和缺陷觀(guān)測是非常重要的。微光顯微鏡的優(yōu)勢
之一是它可以在沒(méi)有減少層級或破壞樣品的情況下把目標區域可視
化。對于ESD失效分析,對正向和反向偏置的電子發(fā)光特征的評測
提供了有關(guān)缺陷、錯誤、失效和設備操作的信息。電子空穴對(EHP
)的復合與產(chǎn)生進(jìn)而產(chǎn)生光子。在電子空穴對復合過(guò)程中少數載流
子與多數載流子復合就放出一個(gè)光子。雪崩擊穿也會(huì )導致光子的產(chǎn)
生。因此,電發(fā)光可用于正向偏壓電流和反向擊穿現象評估。此外
,可以用光子發(fā)射來(lái)發(fā)現氧化物和電介質(zhì)失效。
    EMMI工具是為半導體缺陷成像而開(kāi)發(fā)的。一些EMMI工具有光學(xué)
顯微鏡系統和一個(gè)圖像增強器。圖像增強器放大來(lái)自光學(xué)顯微鏡的
信號,然后把信號輸出到CCD相機℃ID和CCD相機的輸出連接到一個(gè)
圖像處理計算機。然后輸出到計算機上顯示�?梢暬浖卸S和
三維映射,三維數據的截面視圖可以產(chǎn)生二維圖像。近年來(lái),低溫
冷卻的背部薄化CCD相機以及軟件采集系統越來(lái)越多地被使用。

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